4、溅射：
反射层下面的工序就是真空溅射反射层，溅射治规般电每下图剧任工艺也是在一体机里面完成的。
其原理是将高纯度的铝做成圆形的"铝靶"，上下通正负极，中间真空并充填惰性气体。当通电的时候，铝靶上的铝原子受电子冲击溅射到光盘甚久间知华的信息面上，从而形成一个反射层。铝靶同光盘之间的距离很短，并有一对铜制的比光盘稍小的圆环，防止铝溅射到光盘以外。
由于采用溅射的方法，每张光盘的反射层都很薄，仅的保热有几个铝分子厚。铝靶的内部同样要求高度的清洁，因为任何杂质都会使光盘反射层出现"针眼"，或者杂质碳化造成黑点。一般一个项铝靶可以生产10万张光盘，概但连续使用的铝靶能够生产更多区婷夜期层景刚章攻资式的产品。
前面我们提到的金盘是用铜合金或者金做反射层，如果采用铜合金作为反射层就不能采用溅射的方法了，而是将金粉或铜合金粉采用类似"喷粉"的方法涂附呀味在光盘的信息面上在损善举留示。除了铜合金本身价格高以外，这样的工艺不仅效率不高，而且提势散功顺贵声航刻损耗大，容易出现质量问题，所以这也是金盘价格高的另一个原因。
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